产品型号: | ||
产品品牌: | Allied | |
产品价格: | 面议 | |
所 在 地: | 上海 闵行区 | |
发布日期: | 2014-04-23 | |
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详细说明
MultiPrep™ 系统适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,etc)样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性,可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触
TechPrep™ 为MultiPrep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围(顺/逆时针)为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外,还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准;自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。
特点:
· 测微计控制样品的设置
· 精确轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转。
· 数字千分表显示样品行程,增量1微米。(实时)
· 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),10°幅度, 0.02° 增量。
· 6倍速样品自动摆动。 8倍速样品自动旋转。
· 样品调整范围:0-600克(100克增量) 数字记时器与转速计
· 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置工作夹具。
· 符合CE标准 美国设计制
Item No.
规格
15-2000
MultiPrep™ 研磨配套设备
包括:10-1000(-230)TechPrep™抛光机,10-1005 8”铝制研磨盘,润滑油圈和研磨盘罩,15-1000-1 MultiPrep™,15-1020平行抛光装置,15-1030刻度指示盘套装工具,附件盒,50-30076金刚石薄膜分类包,90-150-350 Red Final C抛光布,180-20015 0.05微米硅胶悬浮液(16 oz),MultiPrep说明CD
15-2000-230
MultiPrep™ 研磨配套设备 230V 50/60Hz
附件:
10-1005
TechPrep™ 8"(203mm)铝制研磨盘