产品介绍
简要介绍:
1200度真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚，和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。工作温度区间800℃至1200℃。该系列设备的控制系统国际领先，具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
主要用途：
高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
详细参数
产品型号
SG2V-1-12TP
工作电源
AC220V 50/60HZ
炉膛尺寸
外径205x内径190x高340mm
额定功率
≤3kw
外形尺寸
450x550x650mm
重量
70kg
升温最快速度
0~30℃/min（建议不超过20℃）
产品特点
可装真空装置，能在多种气氛下工作，50段程序控温
加热元件
含钼电阻丝
常用温度
≤1100℃
最高温度
1200℃
控温方式
50段智能化程序PID模糊控制
恒温精度
±1℃
控温仪表
智能温控仪
密封方式
全封闭
炉膛
氧化铝多晶纤维炉膛，设计合理，经久耐用，保温性能好，节能
测温元件
K型热电偶
炉门结构
上开式
主要配件
密封法兰1套，坩埚1个，真空泵1台，高温手套1副,热电偶1根等
最大真空极限
≤0.1MPa
以上数据仅供参考，炉膛尺寸可根据客户要求定制，外形尺寸如有更改，恕不另行通知!
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