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本多超声波清洗机W-200-HFMK II:圆柱形接近开关

更新时间:2026-10-30 00:03:52

本多超声波清洗机W-200-HFMK II


本多超声波清洗机W-200-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗,对工件损伤很少。并且和低频清洗相比,具有清洗效果均匀,噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘,半导体,液晶等微小的赃物。
适合于染色,脱气,溶解,搅拌等用途
使用于磁头,镜片等的染色和脱气,化学品的溶解和搅拌等。

型号:W-200-HFMK II T
振荡方式:单频振荡
最大功率:200W(可调整功率)
振荡频率:200KHz
振荡器电源:AC100V/6A、AC200、220V/3A
(定货时选择)
外形尺寸(mm)W×D×H:3000×430×140
使用液温范围:50℃
换能器类型:投入型换能器、振动板型换能器

圆柱形接近开关KSN方形接近开关 圆形接近开关供应科信色标传感器 开关电源哑铃裁刀/橡胶试验裁刀/试验刀模

圆柱形接近开关


M5- M30 各种尺寸、NPN和PNP型 
常开常闭可选

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